制药厂恶臭废气处理工艺

制药厂恶臭废气处理工艺

 

制药厂在生产过程中会产生大量的有机废气，废气味道很大，不仅污染环境，而且危害员工健康。废气成分包括三乙胺、亚磷酸三乙酯、乙腈、二氯甲烷等。因此，有必要对制药恶臭废气进行处理。决定选择光催化除臭工艺。

 

制药厂恶臭废气的处理工艺；

 

制药产生的有机废气通过排气设备输入uv光催化除臭设备，净化设备利用高能紫外光束和臭氧对恶臭气体进行协同分解和氧化反应，使恶臭气体物质降解为低分子化合物、水和二氧化碳，然后通过排气管排放到室外。

 

光催化除臭设备的工作原理；

 

本产品采用特殊的高能、高臭氧紫外光束照射恶臭气体和二氧化钛进行光催化，催化裂解恶臭气体如氮气、三甲胺、硫化氢、甲基硫化物、甲硫醇、二甲基二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC、苯、甲苯和二甲苯的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物的分子链在高能紫外光束照射下降解转化为CO2等低分子化合物。

 

二氧化钛的光催化活性在很大程度上影响光催化反应速率，而二氧化钛的光催化活性主要受二氧化钛的晶型和粒径的影响。锐钛矿型二氧化钛具有高催化活性。随着粒径的减小，电子和空穴简单复合的几率降低，光催化活性增加。此外，孔隙率、平均孔径、颗粒表面状态、纯度等。对其光催化活性也有一定影响。为了提高光降解效率，对二氧化钛光催化剂进行了改性，如制备纳米二氧化钛、制备二氧化钛复合半导体、掺杂金属离子、敏化染料等。二氧化钛催化剂也可以通过各种先进的手段来制备，以提高光催化剂的活性。

 

空气中的氧分子被高能臭氧紫外光束分解，产生游离氧，即活性氧。由于自由氧携带的正负电子不平衡，氧分子结合产生臭氧。UV+O2→o-+o*(活性氧)o+O2→O3(臭氧)。众所周知，臭氧对有机物有很强的氧化作用，对恶臭气体和其他刺激性气味有立即去除作用。

 

利用高能紫外光束裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸(DNA)，然后利用臭氧进行氧化反应，从而完全达到除臭杀菌的目的。

 

光催化光解废气净化器又称紫外线除臭设备、光电离子废气净化设备、光解催化氧化废气净化设备等。它是一种能高效、快速去除挥发性有机化合物(VOC)、无机物、硫化氢、氨、硫醇、苯等各种恶臭气体的环保设备。除臭效果更好，除臭效果大大超过国家恶臭污染物排放标准(GB14554-93)。

 

UV光催化除臭设备广泛应用于各种有污染源的恶臭气体的除臭净化，如油漆废气处理、油墨废气处理、塑料废气处理、化工废气处理、制药废气处理、污水池臭气处理、烟草废气处理、铸造废气处理等。